去离子水设备可以主要去除水中的哪些离子

硼(B):硼一般存在于海水中,其含量可达5mg/L.内陆咸水湖中含量更低。硼不是污染源,但由于在某些使用环境中会造成不利影响,因此在电子工业中必须去除。硼的化学性

质类似于硅,pH值高于10状态下,它以单价硼酸根阴离子形式存在,pH值低于10状态下,它

以非离子化的硼酸B(OH)3形式存在,硼酸盐的去除率与pH值有关,pH值高时,去除率也高。

二氧化硅(SiO2):二氧化硅在某种情况下是一个阴离子。它的化学性质很复杂,

甚至是不可预测的。 TOC(以碳计)表示有机物总量而未指明有机物的构成,同样,硅浓度

仅表示了硅的总浓度,但没有指明硅的各种构成的浓度。 水中的硅总量中包括活性硅与胶体

硅。活性硅是可溶硅,它被弱电离且未聚合成长链。活性硅是RO与离子交换工艺中希望的

形式,也是IMSDesign软件所使用的二氧化硅的形式。虽然活性二氧化硅有阴离子特性,但

在水质分析中它未以阴离子方式计入阴阳离子平衡,却以盐的形式计入TDS。胶体硅是聚合

硅或胶体状,就其性质而言更接近固体。 胶体硅可以被RO系统去除,但可能在RO前端造成

胶体污染。胶体硅的直径可小到0.008微米,但只有大于或等于0.45微米的部分才能用SDI来测量。粘土、淤泥、沙石等微粒状的硅混合物一般有1微米或更大的直径,可用SDI仪测量。在使用硅分散剂条件下,活性硅的溶解度限值为100-150%。温度的升高、pH值在7.0以下或7.8以上均会使硅的溶解度上升,对硅聚合起催化作用的铁离子存在时,活性硅溶解度下降。在RO系统中,硅的脱除率与原水pH值密切相关,随pH值的增加,该脱除率也增加,这是因

为活性硅更多的是以盐的形式存在,而不是酸的形式。

二氧化碳(CO2):二氧化碳为气体,当溶于水时与水反应生成弱碳酸(H2CO3).

如纯水中二氧化碳处于饱和状态,其浓度约为1600mg/L,pH值约为4.0。自然界水体中二氧

化碳的来源是基于pH值的碳酸氢根平衡。水体中的二氧化碳浓度间接的决定于pH值与碳酸氢根浓度的对应关系。二氧化碳与碳酸氢根离子在pH值的4.4-8.2区间保持平衡。 pH值为4.4时均为二氧化碳,pH值为8.2时均为碳酸氢根。IMSDesign程序运用碳酸氢根浓度与pH值计算水中二氧化碳浓度。 由于二氧化碳为气体,RO膜对其不具有脱除或浓缩作用,其浓度在给水、产水与浓水中相同。在给水中加酸将碳酸氢根化为二氧化碳,故而pH值下降。

硫化氢(H2S):硫化氢呈气态,使给水中有臭蛋气味。 其0.1mg/L浓度是异味的临

界值,在3-5mg/L浓度时,具有强烈的异味。硫化氢易于被空气、氯及高锰酸钾等氧化剂氧

化成硫。硫的作用类似于胶体污染,用传统的介质过滤器不能去除。 在系统设计中,建议将

硫化氢保留为气态,使其穿过RO系统进入产水,再对产水进行处理并去除。